Se il laser ultravioletto sottovuoto può essere focalizzato in un piccolo punto di fascio, può essere utilizzato per studiare la struttura dei materiali mesoscopici e realizzare nano-oggetti con una migliore precisione.
Per raggiungere questo obiettivo, gli scienziati cinesi hanno inventato un sistema laser VUV da 177 nanometri in grado di raggiungere la messa a fuoco sub-micron a lunghe lunghezze focali.
Un risultato della ricerca pubblicato su "Light Science & Applications" (LightScience&Applications) mostra che i ricercatori hanno sviluppato un sistema di microscopio a emissione fotoelettrica a scansione laser VUV da 177nmVUV utilizzando una striscia sferica priva di aberrazioni, che si trova a una lunga lunghezza focale (—-45mm) Il fondo ha un punto focale di<>
Rispetto alla sorgente laser DUV con risoluzione spaziale attualmente utilizzata per ARPES, la sorgente laser VUV da 177nmVUV può aiutare la misurazione ARPES a coprire uno spazio di momentum più ampio e ha una migliore risoluzione energetica.
Il sistema laser VUV ha una lunghezza focale ultra-lunga (-45 mm), una risoluzione spaziale sub-micron (-760nm), una risoluzione dell'energia ultra-alta (-0,3meV) e una luminosità ultra-elevata (-355MWm-2). Può essere applicato direttamente a strumenti di ricerca scientifica come il microscopio elettronico ad emissione fotoelettrica (PEEM), lo spettrometro fotoelettronico ad angolo risolto (ARPES), lo spettrometro Raman laser ultravioletto profondo.
Attualmente, il sistema ha rivelato le caratteristiche della banda di energia fine di vari nuovi materiali quantistici, come il superconduttore topologico quasi unidimensionale TaSe3, gli isolanti topologici magnetici (MnBi2Te4) (Bi2Te3) m e così via.